Китайская государственная компания в Шанхае начинает массовое производство установок для литографии в глубоком ультрафиолете (DUV). Первые поставки запланированы на этот год, что может изменить расстановку сил на рынке полупроводников. В статье мы рассмотрим ключевые аспекты этого события и его влияние на глобальную индустрию чипов.
Первые шаги к независимости
- Старт производства: Неназванная компания активно производит установки, которые станут основой для создания 7-нм микросхем.
- Клиенты: Среди первых покупателей числятся такие гиганты, как SMIC и Hua Hong Semiconductor.
- Долгосрочные планы: Ожидается, что в 2026 году будет доставлено пять DUV-установок, а к 2027 году их число вырастет до двадцати.
«Эти шаги демонстрируют стремление Китая сократить зависимость от иностранного оборудования», — отмечают эксперты.
Вызовы и возможности
- Запреты со стороны США: Китайские компании могут столкнуться с ограничениями в сотрудничестве с ASML из-за новых законопроектов в США.
- Локализация производства: Большинство компонентов нового оборудования производится внутри страны, но критические детали все еще зависят от импорта.
- Качество и производительность: Новое оборудование может уступать по качеству аналогам от ASML, что потребует времени для сертификации и тестирования.
Текущие рыночные тенденции
- Конкуренция с ASML: В 2026 году ASML планирует отгрузить около 130 иммерсионных систем, что создаёт давление на новые китайские разработки.
- Рынок полупроводников: На Китай приходится около 20% чистой выручки ASML, однако этот показатель снижается.
- Новые технологии: Китайская разработка в области экстремальной ультрафиолетовой литографии (EUV) пока находится на начальном этапе.
«Снижение зависимости от зарубежных технологий является стратегической целью Китая», — комментируют аналитики отрасли.
Перспективы будущего
- Коммерческое внедрение DUV-литографии: Ожидается, что полноценное использование этих технологий станет возможным не ранее середины 2030-х годов.
- Доля рынка ASML: По прогнозам, 98,7% рынка иммерсионной литографии останется за ASML даже после появления китайских систем.
- Инвестиции в исследования и разработки: Для успешной конкуренции Китаю потребуется значительное время и ресурсы для улучшения своей технологии.
Таким образом, несмотря на значительные усилия Китая по развитию собственного производства DUV-литографов, ему предстоит преодолеть немало препятствий на пути к достижению конкурентоспособности на мировом рынке.
